El crecimiento de cristales por CVD (CVD son las siglas de Chemical Vapor Deposition) es muy diferente del crecimiento HPHT. El método CVD implica el uso de agentes gaseosos principalmente una pequeña cantidad de metano (CH4 como fuente de carbono) y en una atmósfera de hidrógeno (H2) en el interior de una cámara de presión en las que […]
